Fotonika
Z laboratorium do przemysłu
Dzięki aplikacji branżowej 4.0 wzrost ilości danych wymaganych na całym świecie stawia coraz większe wymagania infrastrukturze telekomunikacyjnej. W grę wchodzi coraz więcej systemów światłowodowych. Ze względu na rosnące ilości rosną również wymagania dotyczące automatyzacji podczas produkcji. Głównym problemem jest tutaj precyzyjne dopasowanie do siebie włókien szklanych lub całych światłowodów. Obecnie standardowe zastosowania wymagają przyrostów od 50-100 nm. Wstępne zastosowania laboratoryjne w dziedzinie fotoniki krzemowej (SiPh) wymagają przyrostów rzędu 5 nm. Firma WEISS opracowuje również rozwiązania dostosowane do potrzeb tego rynku – rozwiązania, które spełniają wymagania rynku, a jednocześnie są przystosowane do całodobowego użytkowania w branży.
Typowe procesy
- Stoły XY do pozycjonowania płytek SiPh
- Osiowanie włókien szklanych względem siebie za pomocą systemu 3-osiowego
- Precyzyjne wyrównanie światłowodów z przyrostami około 50 nm
- Testowanie wiązań SiPh
Przykłady zastosowania
Osiowanie 6DoF
Osiowanie światłowodów lub układów światłowodowych
Sondowanie płytek
Test obwodów optycznych z niestandardowym systemem XY