Photonics

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Vom Labor in die Industrie

Befeuert durch Industrie 4.0-Anwendungen stellt die Erhöhung des weltweit benötigten Datenvolumens immer höhere Anforderungen an die Infrastruktur der Telekommunikation. Immer mehr Glasfasersysteme kommen zum Einsatz. Durch die steigenden Stückzahlen steigen auch die Anforderungen an die Automatisierung in der Produktion. Hierbei geht es vor allem um das präzise Ausrichten von Glasfasern oder ganzen Arrays zueinander. Standardanwendungen benötigen heute Schrittweiten im Bereich von 50-100nm. Erste Laboranwendungen im Bereich Silicon Photonics (SiPh) benötigen Schrittweiten im Bereich von 5nm. WEISS entwickelt auch für diesen Markt kundenspezifische Lösungen, die den Marktanforderungen gerecht werden und gleichzeitig für den 24/7 Einsatz in der Industrie tauglich sind.

Typische Prozesse

  • XY-Tisch zur Positionierung von SiPh-Wafern
  • Ausrichtung von Glasfasern zueinander mit 3-Achsen-System
  • Hochgenaues Ausrichten von Faserarrays mit Schrittweiten um 50nm
  • Testen von SiPh-Kontaktierungen

Anwendungsbeispiele

6DoF Alignement 

6DoF Alignement 

Justierung von Fasern oder Faserarrays

Wafer Probing

Wafer Probing

Test von optischen Schaltkreisen mit kundenspezifischen XY-System